光刻机技术迎来重大突破！国产28nm光刻技术成功投产，标志着东方大国芯片制造终于摆脱对进口设备的依赖。想知道背后有什么故事和挑战？继续往下看，揭开国产光刻机的神秘面纱。
光刻机技术突破
在整个科技竞争中，光刻机技术的突破对于我们来说，不仅仅是一种技术上的胜利，更多的是代表了东方大国在全球科技竞争中崛起的一个重要标志。
而这背后所代表的市场需求增长则来自人工智能和5G技术的飞速发展，这两项前沿技术对于芯片的性能有着极高的要求，而且也推动了高端芯片在市场中占据主导地位。
目前来看，以28nm为代表的工艺制程已经成为高端芯片生产的基础标准，而光刻机则是决定这项工艺能否突破到更先进水平的关键。
然而ASML公司所垄断的光刻机市场却让国内的芯片生产商望而却步，该公司几乎垄断了全球80%以上的光刻机销售，其设备之所以价格昂贵是因为其独特的工作原理，通过紫外线将掩膜上的电子设计图信息投射到硅片上，从而形成微小且精密无比的电路。
国内虽然在其它领域的芯片生产上取得了进展，但在28nm工艺这一块依然是无能为力，国产光刻机目前虽然也取得了一些突破，但离投入量产还有很大差距。
此外，光刻机的研制成本也是极其庞大，这对高端设备来说几乎是必须要面对的挑战，而且其研制成功率也并不乐观，可能50亿的投入最终可能会打了水漂。
国产光刻机技术
然而就在大家都对国产光刻机技术望洋兴叹的时候，上海微电子却在去年底宣布成功研发28nm光刻技术，并且已经顺利投入使用，这也就意味着国产芯片在高端制程上终于摆脱了对进口设备的依赖。
ASML公司虽然在技术上依然占据着绝对的优势，但我们之所以要强调自主研发的重要性就是希望国内企业不要止步于此，继续向ASML学习先进的技术和理念，并且在此基础上进行自主突破，以便更快摆脱对进口设备的限制。
此举也是符合国家战略发展方向的，因为当前以28nm为代表的工艺制程已经成为市场主流，而国内此前所投入市场生产的65nm、45nm芯片由于制造成本过高一直饱受销售困扰，甚至有厂商因此陷入经营危机。
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而28nm工艺虽然市场需求大涨，但ASML公司作为一个商业公司并没有将生产成本尽量降到最低，其设备的高昂售价也让不少芯片生产商望而却步。
