俄罗斯宣布可以生产350纳米的第一台光刻机问世后，俄工贸部紧接着称，到2026年会收到国产的130纳米光刻机。
全球首次可用的130纳米光刻机是在2001年投产的，也就是说俄罗斯目前与世界的差距在25年左右，不过据称俄罗斯下一代90纳米光刻机也正在开发之中。
据悉，目前市面上占市场大头的是28纳米以上制程的芯片，占60%，14纳米占10%左右，而350纳米的芯片在汽车领域来说已经完全够用。
俄罗斯两年后的130纳米芯片，则属于宇航级芯片，譬如航天发射的火箭就要求良率达到亿分之一以内，且芯片更是要求安全可靠，而130纳米的芯片目前来说是最合适的。
芯片不是在任何行业都是越小越好，对于俄罗斯来说，就算能制造出3nm的光刻机，其他产业链跟不上，也造不出3nm的手机来，从无到有是一个突破，现解决能用在到好用需要一个过程，不知道俄罗斯能在光刻机研制这条路上走多远。
目前，我国制造的光刻机已知的是90纳米，通过多重曝光可以生产55纳米左右的芯片，不过在主要技术积累方面，已经达到了28纳米左右，其中中微的蚀刻设备和屹唐半导体的去胶机已经到了5纳米。
