据塔斯社报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长VasilyShpak表示,该设备可确保生产350纳米工艺的芯片。
Shpak表示,“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。
据悉,350纳米工艺的芯片现在仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。
据IT之家此前报道,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所(IPFRAS)曾于2022年宣布,正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备,并对外夸下海口:这套光刻机能够使用7nm生产芯片,可于2028年全面投产。
据介绍,他们计划在六年内制作出光刻机的工业原型,首先要在2024年开发一台alpha机器。这一阶段的重点不在于其工作或解决的高速性,而在于所有系统的全面性。
本文源自:IT之家
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