据塔斯社报道，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长VasilyShpak表示，该设备可确保生产350纳米工艺的芯片。
Shpak表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。
据悉，350纳米工艺的芯片现在仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。
据IT之家此前报道，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所(IPFRAS)曾于2022年宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产芯片，可于2028年全面投产。
据介绍，他们计划在六年内制作出光刻机的工业原型，首先要在2024年开发一台alpha机器。这一阶段的重点不在于其工作或解决的高速性，而在于所有系统的全面性。
本文源自：IT之家
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