随着芯片工艺的不断进步，光刻机地位也是越来越重要，因为光刻机的精度，一定程度上决定了光刻工艺的精度，就决定了芯片的精度。
于是从普通的干式DUV光刻机，到浸润式DUV光刻机，再到普通EUV光刻机，再发展成High-NA EUV光刻机……
一代比一代先进，一代比一代昂贵。
普通的DUV光刻机，只要1000多万一台，浸润式DUV光刻机4、5千万一台，EUV光刻机要上亿元一台，而NA=0.55的High-NA EUV，要3亿多美元一台……
像台积电已经拥有的第一代EUV光刻机，上百台了，这里的成本就是上百亿美元了。
但是，问题来了，当工艺再前进，这些光刻机又要更新换代，比如生产2nm及2nm以下芯片时，可能需要用到NA=0.55的High-NA EUV，如果又要买上百台，就是300多亿美元。
这对台积电这样的巨头而言，也是一笔无法承受的开支，自己辛辛苦苦赚钱，最后全被ASML赚去了，真的是忍无可忍啊。
所以，台积电一直在想办法，让旧光刻机能够生产更为先进的芯片。比如之前第一代7nm芯片，台积电就没有采用EUV光刻机，而是采用旧的DUV光刻机，这样来节省成本。
直到第二代7nm芯片，台积电才切换为EUV光刻机。
而近日传出，2nm工艺以及之后的1.6nm工艺下，台积电也没打算换成High-NA EUV，台积电要继续使用旧的EUV光刻机，也就是NA=0.33的那一批。
这一批在台积电手中非常多，如果能够利用这些旧的，那么台积电可以节省一大笔EUV光刻机的升级费用，至少是上百亿美元。
此举对业界的影响其实是非常大的，如果台积电带头不买新光刻机，对ASML，甚至对整个以光刻机为核心的芯片产业链，都会造成巨大影响。
因为一直以来，ASML的EUV光刻机不断升级，推动整个产业进步，最终台积电依赖EUV光刻机的升级，也持续推进工艺的前进，就真的上相当于掀桌子了。
而台积电的行业，也给我们带来了启示，那就是我们也可以深度挖掘光刻机的潜力，不要老是想着买最新的光刻机，在现有光刻机上，利用技术改进，一样可以制造出更先进的芯片来。
