欧洲无法在2030年实现计算机芯片20%的目标，但是过度担忧中国芯片产能的扩张是错误的，因为中国对芯片的需求是无底的。
这是1月14日，ASML（阿斯麦）CEO温宁克在接受采访时作出的表态。
同时温宁克表示，欧洲芯片的产能还无法满足自身的需求，产能扩张实在太慢了。
欧洲芯片“根本不够用”
在全球芯片竞争中，欧洲扮演着重要的角色，欧盟也在2023年9月出台了《欧洲芯片法案》，计划投资430亿欧元，目标是到2030年欧盟全球芯片市场份额增长至20%。
目前来看，欧盟占全球芯片份额为10%左右，增长至20%，也就意味着6年翻番。
很多网友对欧洲芯片制造商并不熟悉，毕竟日常生活中接触到的都是手机芯片、电脑芯片，如：华为、高通、苹果、英特尔、AMD等。
尽管欧洲芯片厂商在手机SoC、电脑CPU中表现平平，但是在汽车芯片、物联网芯片领域表现非常出色，拥有英飞凌、恩智浦、意法半导体等世界领先的半导体企业，这三家企业号称欧洲半导体三雄。
英飞凌由西门子半导体部分发展而来，如今已是全球十大半导体制造商之一，功率半导体、安全控制器领域的全球领导地位，车用半导体龙头。
主要业务包括汽车和工业功率器件、芯片卡和安全应用提供半导体和系统解决方案。并在模拟和混合信号、射频、功率以及嵌入式控制装置领域掌握尖端技术。业务遍及全球。
恩智浦是飞利浦半导体业务部演化来的，是全球最大的MCU厂商，目前专注于四大终端市场：汽车、工业和物联网、通信基础设施和移动。
高通曾在2016年计划用380亿美元的天价收购恩智浦，后来博通把收购价格抬到440亿美元，但最终因为“垄断”，未通过中国监管部门的同意。
意法半导体是全球十大半导体企业之一，也是一家IDM模式的半导体企业，在世界各地拥有多家芯片制造工厂，主要业务包括通信、消费、计算机、汽车、工业类芯片。
意法半导体是全球专用模拟芯片和电源转换芯片龙头，也是全球最大的工业半导体和机顶盒芯片供应商。
从这三家公司的业务中，我们可以看出，欧洲芯片在汽车工业方面十分强大，目前全球汽车产业正在向电动化、智能化转型，这对欧洲来说是一个好消息。
但同时也意味着，欧洲芯片必须快速扩大产能，否则自己都不够用。
在电脑CPU中，欧洲的份额最多只有8%，要增长至20%，需要产能扩大一倍多，显然依靠“欧洲三雄”是做不到的。这需要海外芯片企业的帮助。
芯片巨头英特尔就计划斥资300多亿欧元，在德国马格德堡建设一座先进的芯片制造基地，用于生产3nm芯片，同时在波兰新建工厂，在法国、西班牙建立研发中心，助力欧洲芯片的发展。
当然前提是，英特尔可以拿到足够的“补贴”。
台积电也计划投资100亿欧元，在欧洲开设工厂，博世、英飞凌和恩智浦将持有该项目10%的股权，当然台积电也要拿到足额的补贴。
不用担心中国扩大产能
全球芯片竞争格局中，中国是最为特殊的一环。
世界上，但凡是你能叫得出名字的芯片企业，都可以拿到美国、欧洲、日本的先进半导体设备，已经或者正在尝试制造7nm以下先进芯片，唯独中国例外。
就连路透社也嘲笑的称，在美国限制对华出口先进半导体设备背景下，中国芯片厂商正在使用老旧设备和技术，制造成熟工艺的芯片。
目前，全球91.5%的半导体设备被美、日、荷把控，最先进的光刻机、刻蚀机、离子注入机、CVD、PVD设备都受到了出口限制。
荷兰ASML掌握着全球90%的光刻机，100%的EUV光刻机。根据最新的荷兰进出口政策，ASML的2050i型以上的光刻机，已经无法出口到中国了。
对ASML来说，将会影响10%至15%的营业收入，但是对中国芯片企业来说，影响很大。
2050i型光刻机对应的是亚7nm工艺，以及高级DRAM芯片，部分厂商也将其用于7nm芯片的制造，如今这些光刻机无法购买了，将会对国产7nm工艺造成严重影响。
而能够出口的1980Di、2000i型光刻机主要用于制造14nm以上的芯片，基本不会用于7nm工艺。
当然，如果你不在乎芯片的良品率，也可以用1980Di型光刻机制造7nm芯片，但是价格方面可就不友好了。
简单来说，荷兰的半导体设备出口管制，就是要把中国芯片钉死在14nm。
为了保证国内芯片的充足供应，降低对海外芯片的依赖，中国企业在2023年4季度大幅购进ASML的光刻机。
10月进口额度为6.7亿美元，11月增长至8.2亿美元，12月继续增长至11亿美元，一个季度购买了26亿美元ASML的光刻设备。
这些设备用于国内芯片企业的扩产，如中芯国际新建的4座晶圆厂，华虹集团的无锡晶圆厂项目等。
面对中国芯片企业的扩张，温宁克并不担心，他指出，中国作为全球第二大经济体，进口的半导体比石油还多，2023年进口额度降低了很多，但仍达到了25000亿元。
这说明，中国对成熟工艺芯片的需求几乎是无底的。
中国的电动汽车行业发展的如火如荼，但是在所有中国制造的电动汽车中，只有10%的芯片来自中国本土芯片厂。
更为重要的是，即便中国芯片厂想要扩大产能，但受制于半导体设备，产能扩张也极为有限，并且因为缺少EUV光刻机，中国芯片无法立足7nm以下工艺。
加强国产光刻机研发
我们注意到，2024年1月2日，荷兰对华半导体设备出口管制全面生效，我国也作出了严重交涉，认为此举违背了全球贸易规则，严重破坏了全球半导体产业格局。
这种行径，也必然会冲击国际芯片产业链的安全和稳定。但是，荷兰方面表示，出口限制是应美国拜登付的要求，直接把球踢回给了美国。
但目前的情况是，禁令已经生效了，先进光刻机依然买不到了，我们只有自主研发国产光刻机一条路可走了。
目前来看，国产光刻机实现商用的，只有上海微电子的90nm光刻机，可以满足90nm、110nm、280nm芯片的需求，多重曝光后可以制造55nm芯片，但是良品率会降低，漏电率也会提升。
28nm光刻机获得了重大突破，但是尚未实现商用。
根据多个媒体的消息，国产28nm光刻机目前处于测试环节，今年年底将与大家见面。
好消息是，我们拥有完全自主知识产权，并且这款光刻机的核心零部件全部为国产化。
例如：
国望光学研发的光学镜片，工艺方面达到了28nm光刻技术的要求；
光源由北京科益虹源打造，实现了134nm深紫外光；
在清华大学和华为的支持下，华卓精研发出了双工作台；
启尔机电负责浸没系统，温度稳定性误差达到了0.001度，符合国际先进水准。
如果国产光刻机取得了进步，我们就可以打造纯国产芯片生产线了，也可以摆脱进口光刻设备的依赖了。
写到最后
一个“卖铲子”的，怎么会担心“挖矿”的扩大产能呢？
所以ASML作为全球光刻机龙头，根本不会担心中国芯片产能扩张，因为产能扩张就意味着要购买ASML的光刻机。
但是现在，我们正在攻关国产光刻机，一旦技术突破，我想温宁克又会气急败坏的说我们破坏全球芯片产业链了吧！
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