据Okinawa Institute of Science and Technology（OIST）的一项最新研究报告显示，一种创新的极紫外光刻技术（EUV）有望显著降低芯片制造的成本，进而可能减少消费者购买智能手机的费用。该研究由OIST教授Tsumoru Shintake领导，提出了一种新的设计思路，旨在通过减少反射镜数量来提高能源效率。
OIST的研究表明，这种新型EUV机器仅需传统设备10%的电力即可运行，其资本投入也大幅下降至不到1亿美元。传统的EUV机器通常需要超过1兆瓦的电力和超过2亿美元的资金投入，而新设计则将能耗降至不足100千瓦，极大地节约了能源消耗。此外，新机器还减少了对高功率光源的需求，从传统的200瓦降至仅需20瓦。
Shintake教授指出，通过将两个轴对称镜面以直线排列并带有微小中心孔的设计，可以有效解决过去难以克服的技术难题。这一发明几乎完全解决了这些鲜为人知的问题，使得即使小型的EUV光源也能达到同样的效果。OIST已为这项革新性的EUV技术申请了专利，预计将在全球EUV光刻市场中发挥重要作用，该市场预计到2030年将达到174亿美元规模。
