明确告诉大家。
中国科技自主可控的时代已经来临。
这可不是随便说说,而是有事实依据的。
因为就在近期,中国在光刻机领域取得了四大突破。
第一大突破,根据中国新闻网报道,2021年10月,长春光机所突破了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术,实现了中国超精密光学技术的跨越式发展。
第二大突破,2022年,清华大学团队利用PTB的计量光源完成了全球首次稳态微聚束的原理实验,据悉这实验可以轻松地获得高重复使用频率的极紫外光,而极紫外光正是高端EUV光刻机当中最为核心的光源。
这一突破不仅解决了极紫外光光源的难题,更为我国在高端光刻机领域打破国外垄断奠定了坚实基础。
第三项突破,同样在2022年哈尔滨工业大学也在高速超精密激光干涉仪上取得了重大进展,作为14纳米光刻机和高端EUV光刻机的核心部件,这一成果的重要性不言而喻。
第四项突破,由上海微电子自主研发并生产的28nm光刻机已在2023年底已经交付给市场使用,这意味着我国在光刻机领域又迈出了坚实的一步。
然而大家要知道的是,光刻机的制造是整个半导体行业最复杂的工艺,没有之一。
因为它不仅需要来自全球5000多家供应商的10万多个零部件,并且还要集成全球顶尖的物理学家,数学家等40多门学科的顶尖专家。
然而,中国仅仅用了不到十年的时间,就在光刻技术领域实现了从90纳米到28纳米的巨大飞跃,如今,更是向14纳米、7纳米发起挑战。
可以预见的是,未来随着中国在光刻机领域的不断突破,带动的产业价值将会超过数万亿元。
而背后掌握了核心技术的上市公司也将会迎来前所未有的机遇。
但经过深度复盘,发现当前真正具备这一技术的公司只有这三家。
其中一家公司不仅具备生产制造光刻机镜头的技术和能力,还拥有新型分光棱镜、紫外光刻镜头和光刻机的相关专利,当前股价才十元出头,后续风口一来,随时可能起飞
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