东京电子（Tokyo Electron Limited，简称TEL）是一家日本跨国公司，专门从事半导体制造设备的研发、生产和销售。它是全球领先的半导体加工设备供应商之一，在半导体产业中扮演着核心角色，其产品和技术广泛应用于集成电路（IC）和平板显示器的制造流程。
2023年收入2.21万亿日元，4700亿净利润，相当于146亿美元，31亿美元
总部位于日本东京港区赤坂，东京电子成立于1963年，并在随后的时间里通过技术创新和并购战略不断壮大。公司的业务涵盖了半导体制造中的关键步骤，包括薄膜沉积、光刻、蚀刻、清洗、检查和测量等环节，为客户提供全方位的解决方案。
东京电子在全球范围内设有多个分支机构和研发中心，服务于亚洲、北美、欧洲等地的主要半导体制造商。该公司因其高质量的产品、技术专长以及对客户服务的承诺而获得了行业内的高度认可。
根据历史记录，东京电子曾位列世界第三大半导体设备制造商，仅次于美国的应用材料公司（Applied Materials）和荷兰的阿斯麦（ASML），并且在日本国内稳居第一的位置。随着中国半导体市场的快速发展，东京电子也加强了在中国的投资与合作，中国市场对其营收贡献度逐年增长。
在最新的一年期涨幅中，东京电子的股票已经排在第二位，有几个关键因素促成了这一增长：
1.半导体行业周期性增长：半导体行业经历了一个增长周期，芯片需求激增，特别是随着5G、云计算、人工智能等技术的发展以及全球数字化转型的加速推进，对半导体设备的需求也随之增加，从而推高了像东京电子这样提供制造设备的企业的股价。
2..行业环境利好：全球经济形势以及特定行业动态如美国半导体制造商英伟达公司财报超预期等因素，可以带动整个科技股板块的积极情绪，包括东京电子在内的相关企业受益于这种整体市场的正面情绪。
3.技术创新与市场份额扩大：东京电子可能通过不断的技术创新和市场份额的提升，在竞争激烈的半导体设备市场中巩固了自己的地位，这也能够支持其股价的长期增长。
综上所述，东京电子股价的显著增长是由多方面因素叠加影响的结果，既有公司内部业绩和展望的积极变化，也反映了半导体行业的繁荣态势以及宏观经济背景的影响。
其作为全球领先的半导体制造设备供应商，其主要服务对象包括众多国际知名的半导体制造商和其他高科技公司。其中包括的对象在世界上都处于金字塔最顶尖的玩家：
1.集成电路（IC）生产线：三星电子（Samsung Electronics）、英特尔（Intel）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）、华力微电子、（HuaLi Microelectronics）长江存储科技有限责任公司（YMTC）
2.液晶显示器和平板显示制造商：京东方科技集团（BOE Technology Group）、天马微电子（Tianma Micro-electronics）、华星光电（China Star Optoelectronics Technology, CSOT）、和辉光电（EverDisplay Optronics）、中电熊猫（CEC Panda LCD Technology）
3.其他半导体和相关产业企业：海力士（SK Hynix）、英飞凌（Infineon Technologies）、美光科技（Micron Technology）、联华电子（UMC）
以及其他涉及半导体芯片设计、生产、封装测试等环节的国内外知名企业。
其中，东京电子的技术壁垒也让其他企业难以超越，它的先进光刻胶涂布与显影系统目前更是以100%的市占率垄断了全世界的市场。
1.精密蚀刻技术：东京电子开发了先进的等离子体蚀刻系统，能够以纳米级精度去除晶圆表面材料。例如，它们的蚀刻机可以实现极小特征尺寸的精准控制，这对于先进制程节点下芯片的微细结构至关重要，如3D NAND闪存芯片堆叠超过400层的通孔蚀刻。
2.薄膜沉积技术：TEL在化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）以及物理气相沉积（PVD）等薄膜成膜技术上有显著优势，提供适用于逻辑芯片、DRAM和NAND Flash等各种半导体器件的高均匀性、低缺陷率的薄膜沉积解决方案。3.清洗与表面处理技术：东京电子在晶圆清洗设备上拥有世界领先的技术，能够有效去除晶圆表面杂质并减少颗粒污染，这对于提高半导体器件的性能和良率十分关键。
总之，东京电子通过持续的技术创新和对客户需求的深度理解，建立了坚实的技术壁垒，确保其在全球半导体设备市场的领先地位。
提到半导体生产设备就得是光刻机，那就不得不提到世界的第一龙头阿斯麦尔（ASML），而东京电子在ASML的生态系统中属于重要的供应商和协作伙伴，通过提供先进的配套设备和服务，共同推动半导体制造技术的发展和进步。
虽然ASML主要负责研发和生产高端光刻系统，但这些复杂的系统需要众多精密部件和技术支持才能确保高效运作。东京电子与ASML的合作体现在为EUV和DUV光刻工艺提供配套的半导体加工设备和服务，例如：
1.涂布/显影系统：东京电子提供的Coater/Developer设备用于光刻胶的精确涂布和显影过程，这是光刻工艺中不可或缺的步骤，直接影响到光刻图案的质量和良率。东京电子开发了ACT300F Advanced Coater/Developer系统，专为极紫外光刻（EUV）技术设计，能精确控制光刻胶涂层厚度，并实现高精度的显影过程，这对于实现5纳米及更小制程节点至关重要
Coater Developer设备
2.蚀刻技术：虽然ASML不直接生产蚀刻机，但在先进制程中，完成光刻后的晶圆需要进行蚀刻工艺以形成电路结构，东京电子在这一领域有先进技术，可以为ASML的客户在后续工序上提供高性能的蚀刻解决方案。“Deca”系列是其等离子体蚀刻系统中的重要产品线，如Deca Plasma Etch系列，该系列设备在逻辑芯片和存储器制造中广泛应用，能够实现高精度、高选择比的蚀刻工艺。
3.材料处理和清洗设备：光刻过程中以及前后道工序中可能需要对晶圆进行精细清洗和表面处理，东京电子在这方面的技 术和设备对于保证光刻质量具有重要意义。
4.相关技术研发合作：东京电子还可能与ASML在新技术研发方面开展合作，比如共同推进下一代高数值孔径（High NA）EUV光刻机所需的相关技术或设备的研发工作。
价值27亿人民币的新一代极紫外高数值孔径光刻机（EUV）TWINSCAN EXE:5000（英特尔已下单）
中国在半导体设备制造领域一直在努力发展，并且已经出现了一些具有竞争力的企业，它们虽然在整体技术水平和市场份额上与东京电子等国际顶尖厂商还有一定差距，但已经在某些细分市场或特定技术环节上取得了突破。以下是一些有潜力与中国本土企业：
1.北京北方华创微电子装备有限公司（北方华创）：是中国领先的半导体设备供应商之一，产品涵盖刻蚀机、薄膜沉积、清洗机等多种半导体前道工艺设备，以及封装测试后道工艺设备。
2.中微半导体设备（上海）股份有限公司（中微公司）：专注于开发和生产用于先进集成电路制造的等离子体刻蚀设备和化学气相沉积设备。
3.深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司（捷佳伟创）：在光伏电池生产设备方面拥有较强实力，并逐渐向半导体相关设备领域拓展。
4.上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）：在光刻机领域进行研发，尤其是针对成熟制程及特殊应用领域的光刻设备。
5.华海清科股份有限公司：在化学机械抛光（CMP）设备方面取得了一定的市场份额和技术进步。
估值对比（PE） | 2024年度 | 2023年度 | 归母净利增速 |
东京电子 | 51 | 39 | |
北方华创 | 25 | 35 | 41.2% |
中微公司 | 32 | 42 | 28.16% |
捷佳伟创 | 8 | 13 | 53% |
复旦微电 | 27 | 35 | 29.3% |
华海清科 | 31 | 41 | 32.5% |
尽管如此，这些中国企业仍需面对诸多挑战，包括提升技术研发能力、打破国外技术封锁、提高产品的稳定性和良率，以及在全球市场上获得更广泛的客户认可。不过随着国家政策支持和企业的研发投入增加，中国半导体设备产业的整体竞争力正在逐步增强。
