光刻机被誉为“半导体工业皇冠的明珠”，其科技含量不言而喻。即便如此，光刻机内部也有级别之分。那么光刻机有那几个级别呢？我们简单的分析一下。
按照光刻机精度来甄选，光刻机分为干式DUV光刻机和浸润式DUV光刻机。目前主流的DUV光刻机就是浸润式光刻机，以ASML最为先进。
而ASML在DUV光刻机的基础上，又研制出EUV光刻机，这种光刻机是7nm一以下工艺芯片的关键设备，因此这种光刻机供不应求。
随着光刻机技术的不断进步，ASML在传统EUV光刻机的基础上研制出High-NA EUV光刻机，这种光刻机NA=0.55，比传统的EUV光刻机NA大0.22，可以量产2nm及2nm以下的芯片。
总结起来，光刻机按精度排名，依次是干式DUV光刻机、浸润式DUV光刻机、传统EUV光刻机、NA=0.55的EUV光刻机。而它们对应的售价分别是1000多万美元、4000多万美元、1亿多美元、3亿多美元。
看到这里，想必大家对光刻机的分类有所了解，也对ASML在光刻机领域的实力有一个认知。
实际情况也确实如此，ASML是全球最大的光刻机厂商，其生产的浸润式DUV光刻机占据了全球60%以上的市场份额。而ASML生产的EUV光刻机更是夸张，占据了全球100%的市场份额。
正因为ASML在光刻机市场的影响力，各大芯片代工厂商对ASML光刻机有着严重的依赖。比如我国的台积电就是典型的代表，台积电从ASML购买了大量的EUV光刻机，占据了ASML出售EUV光刻机的50%以上。
而台积电也在ASML光刻机的辅助下，为高通、苹果、英伟达、AMD华为生产大量的7nm以下芯片，成为全球最大的芯片代工厂商。
不过这个局面发生的反转了，据悉，ASML已经把最新的High-NA EUV光刻机出售给英特尔，台积电并没有获得首发权。面对这个局面，台积电也很郁闷。为什么这样说呢？主要是这两方面原因。
一方面是High-NA EUV光刻机售价高昂，一台High-NA EUV光刻机光刻机售价在3亿美元以上。如果台积电已有的光刻机进行迭代换新，那么台积电需要花费几百亿美元。
另一方面是芯片工艺已经进入2nm水准，未来达到1.6nm水准也不是不可能。面对芯片工艺的发展趋势，台积电需要大量的High-NA EUV光刻机成为了必选项。
而面对这个郁闷的局面，台积电方面也传来了消息。据悉，对于2nm及更低的1.6nm工艺，台积电并不会替换成High-NA EUV光刻机，而是继续使用NA=0.33的传统EUV光刻机。此前台积电曾用浸润式DUV光刻机生产7nm芯片，因此用传统EUV光刻机生产2nm以下工艺芯片，这在技术上是可以实现的。
当然了，这只是有关台积电传来的消息，台积电是否会这样做，这还有待确认。不过可以确认的是，如果台积电真的使用传统EUV光刻机生产2nm以下工艺芯片，那么ASML可能会慌了。
要知道ASML为了研制High-NA EUV光刻机是花费了巨大的人力、物力、财力，并且ASML也希望High-NA EUV光刻机是其营收的主要来源。如果台积电不采购High-NA EUV光刻机，ASML将会失去这一重要客户，并且台积电的这一做法会带来示范作用，引起其他芯片代工厂商模仿。
那么台积电会采购High-NA EUV光刻机生产2nm芯片，还是用传统EUV光刻机生产2nm芯片呢？我们拭目以待吧。
