光刻机大家都知道，那么大家知道光刻胶的重要性吗？
曾被美国“拉帮结派”限制中国光刻机进口，再到突破国外“封锁”，一步步地实现了国产光刻机。中国在这技术上的研究与制造是相当成熟的，但是我们也不能忽略另外一个关键性技术——光刻胶。
光刻胶作为芯片的关键材料，全球90%以上的光刻胶生产都掌握在了日本企业手中。倘若中国在这一技术上被日本“卡脖子”又将面临着什么样的困难呢？此外，中国如何应对？
很多人都担心：我们国家哪怕是掌握了光刻机技术。但是没有日本的光刻胶也是会“白搭”。
真相是不是如此呢？
那么，问题来了！
光刻胶与光刻机的关系是什么？
光刻胶：又称光致抗蚀剂；
是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。
其应用范围非常的广泛，例如：制造集成电路、模拟半导体、平面显示器、光电子器件等领域。其次光刻胶的好坏是可以直接影响芯片制造质量的，一个完整的光刻胶会给芯片带来更多的效率。
光刻机：
是将目标结构图要印刷到硅片等基底基底上的机器，相当于照片冲印的过程。
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。光刻的技术水平也决定了芯片的水平，光刻的技术越高超，那么芯片的水平还会达到一个新的提升。
其中，光刻机也有很多种分类。
包括：接触式光刻（掩膜板可直接与光刻胶层接触）、接近式光刻（掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），大约为2.5～25 μm）、投影式光刻（掩膜版上的尺寸与光刻胶上的图案尺寸相同）等。
其实从这里我们就可以看出光刻胶的重要性了，光刻机是无法离开光刻胶的。而这也给日本很多的底气，曾一度喊话：“光刻机离不开日本的光刻胶”。还称，一旦没有了光刻胶，光刻机就跟“废铁”一样毫无区别。
实际上，日本跟美国没有任何区别。无论是美国还是日本都想要竭力阻止中国的发展，所以在光刻机与光刻胶上面尤为的重视。他们不单单是重视这一技术的发展，更重视如何去“针对”中国。
近几年，美国也没少与中国的芯片“打交道”。除了美国之外，日本在近几月前也宣布了加强对半导体制造设备的出口管制。很显然，日本与美国已经站在了统一战线，那就是——对中国实施“制裁”。
那么他们国家的“阴谋”真的会得逞吗？
说实话，早在中国宣布迎来国产光刻机时，最坐不住的就是荷兰光刻机巨头，甚至他们已经出现了后悔的迹象。但这对于我们来说没有任何意义，因为国产光刻机已经出现了，所以在这一技术上，我们根本不怕他人“卡脖子”。
更值得一提的是，中国还突破了光刻胶技术，并迎来了ArF光刻胶。这也意味着我们将会减少对日本光刻胶的依赖。国产光刻胶的突破，对于我们来说，既是一场挑战又是一场机遇。
更值得庆幸的是，国产光刻胶的到来，让中国在光刻机技术上又得到了一个新的突破以及提升。况且中国在ArF光刻胶方面已经实现了小批量供应，国产化率约为3%。虽然它的国产化率还达不到50%以上，但这对于我们来说是一个好的开始。
因为我们国家始终有信心提高国产化率，因为中国正在一步步的进步着。同时，美日两国的“阴谋”是不会得逞的。他们想要“针对”中国只会是无用功，他们越是“针对”我们国家，我们国家发展的会越快。
如今，中国ArF光刻胶、光刻机的问世，美日垄断是否成为过去式了？
中国在这一发展的道路上是迅速的。在美日两国想要“对付”我们国家时，我们早就已经找到了解决的办法。在过去我们可能是处于被动状态，但如今中国早已经主动出击了，也就意味着我们不再是被动的，而是主动的。
中国也迎来了属于自己的光刻机时代，并且突破了关键性材料光刻胶，这对于我们来说是一个“质的飞跃”。更是打破了美日的垄断，使得他们不再利用这一技术来限制中国了。还是那句话：我们从未想过依靠任何人，唯有把碗握在自己手中才能吃饱饭。
我们不光要在光刻机上面有所成就，中国光刻胶也会迎来它的高光时刻，中国在这一领域正在一步步地发展着，没有任何国家可以阻碍我国的发展，也没有任何人可以“限制”中国。
最后，我们国家不是非日本的光刻胶不可，我们国家也不是非要荷兰的光刻机不可。我们始终坚信着唯有自己强大才能真正的走向强大，从一始终我们就不打算依靠任何人或者是任何国家。
当我们没有那么成功之时，我们只会不断地学习他国的知识以及经验，不断地提升自我与创新。都知道长久的依赖一个人会发生很大的变化，会让自己变得越来越“颓废”，甚至又会回到了“造不如买”的过去。
因此，
中国会一步步的打下坚实的基础，
中国也会一步步的进步着。
我们不仅要在光刻机领域超越自我，更会在各大领域大放光彩。
