万润股份获得发明专利授权: “用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用”

证券之星消息，根据企查查数据显示万润股份（002643）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用”，专利申请号为CN202410269048.6，授权日为2024年5月10日。

专利摘要：本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用，所述聚合物具有如下结构式：；a、b、c分别为聚合物中重复单元的质量分数，a选自1?10%，b选自10?80%，c选自10?80%，所述聚合物的重均分子量选自4000?10000Da，分子量分散系数选自1.0?3.0。制备方法为：三种单体在溶剂中，经缩聚反应得到目标聚合物。所述聚合物可应用于光刻胶底部抗反射涂层，所述聚合物可有效阻止光刻胶辐射光穿透反射涂层，大幅提高光刻胶显影图案的分辨率。

今年以来万润股份新获得专利授权17个，较去年同期增加了54.55%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了3.65亿元，同比增2.01%。