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芯片制造的过程非常复杂，会涉及到各种半导体设备，材料。主流的技术掌握在国外供应商手中，ASML垄断了EUV光刻机，日本垄断了光刻胶。中国厂商距离EUV光刻机还有一定的水准，但是在光刻胶方面，六家中企相继突破，芯片问题“只差一步”了，外媒：难以置信！
六家中企突破光刻胶
日本没有世界顶级的芯片制造商，但是在半导体产业链中，日本的作用是非常大的，各大芯片制造商都需要找日本厂商购买光刻胶。光刻胶是一种用于半导体制造中的关键材料，用于在芯片制造过程中对硅片表面进行光刻图案的处理。
日本在光刻胶产业方面具有较强的实力，拥有多家知名的光刻胶制造企业，如信越化学、三井化学和东京毅力科技。这些企业在光刻胶技术研发、生产和市场占有率方面处于领先地位，高端EUV光刻胶更是达到绝对的垄断级地位。
如果没有光刻胶的支持，芯片制造将无法进行精确的图案定义和转移，大大影响芯片的性能和质量，后续的刻蚀，离子注入等步骤也无法进行了。所幸的是中国厂商非常争气，相继突破了可用于7nm制程的ArF光刻胶技术。
根据市场调研显示，上海信阳，南大光电等中企正在进行ArF光刻胶的验证，说明技术储备的问题已经解决了，待验证完成后，或许就会根据客户的需求投入量产。
ArF光刻机是仅次于EUV光刻胶的材料，最高可应用于7nm芯片制造节点，其余的G线，I线光刻胶也有不同的进展。面对中企这样的进展突破，外媒直言：难以置信！
芯片问题“只差一步”
光刻胶在现代半导体工业中扮演着至关重要的角色，是确保芯片制造过程顺利进行的关键材料之一。一旦解决了光刻胶的问题，很多事情都能迎刃而解，继续向前，芯片问题“只差一步”了，也就是光刻机。
要知道光刻机是芯片制造必不可少的设备，价值远超普通的半导体设备，最顶级的EUV光刻机可以卖到数亿美元一台。在芯片制造过程中，光刻机通过照射紫外光或激光光束来暴露光刻胶，然后对光刻胶进行显影处理，最终将所需的图案转移到硅片表面上。
EUV光刻机量产技术掌握在荷兰ASML公司手中，美国不允许该公司随意出货EUV光刻机，所以中国大陆至今没有一台，只能采用中低端的DUV光刻机。ASML说过，要是不和中国分享技术，他们就会自己去研究。
这番话的背后，其实ASML是在担心中国有朝一日取得光刻机技术的最终突破，到那时候就不需要ASML的产品了，将失去很大的市场机会，甚至迎来新的竞争对手。
目前中国已经实现90nm光刻机的量产，28nm制程光刻机也在加紧研究，相信中国厂商会不负众望，带来惊喜。
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