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摩尔定律已经走到尽头的消息甚嚣尘上，但英特尔并不认为摩尔定律走向终点，未来还有更大的发展空间，集成电路可容纳晶体管的数量还能继续增长。
而这份自信的来源和ASML新一代NA EUV光刻机有关。这个美国芯片巨头正式宣布，完成新一代光刻机组装，明年投入使用。
英特尔完成High NA EUV光刻机组装
光刻机是制造芯片的必备工具，使用光刻机对晶圆进行曝光，可以将设计好的芯片图案通过掩膜版复刻在晶圆表面。后续再利用刻蚀机，离子注入机等设备完成芯片制造，一颗芯片就能落地了。说起来简单，做起来就是难如登天了。
全球只有ASML一家公司能制造EUV光刻机，而且有价无市。在EUV光刻机的支持下，台积电，三星造成了7nm至3nm的高端芯片。然而EUV光刻机并非终点，下一代High NA EUV光刻机也来了。英特尔作为首发客户，已经完成组装工作。
根据英特尔4月19日宣布的消息，其位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的工厂完成了全球首台High NA EUV光刻机的组装工作，目前正进入光学系统校准阶段。
和EUV光刻机相比，ASML新一代的NA EUV光刻机有何区别呢？价格方面，NA EUV的售价高达3.5亿美元，折合人民币超过25亿元。旧款的EUV光刻机价格为1.6亿美元左右，折合人民币11亿元。
数值孔径也从0.33提升到0.55，数值孔径越大聚焦的光斑越小，刻划的分辨率也就越高。换句话说，能够在同样的集成电路面积上，增加晶体管的密度，而且据英特尔表示，提升幅度可达到190%。
美国芯片制造业翻盘了？
按照英特尔的计划，完成组装工作后，明年就能投入使用了。英特尔多年前就入局了芯片代工行业，和台积电，三星一样，可帮助客户完成高端芯片的制造。有了NA EUV光刻机的加持，英特尔的自信恐怕要膨胀了。
而英特尔代表的是美国最强的芯片制造工艺，英特尔崛起了，是不是意味着美国芯片制造业要翻盘了？看看美国这些年为了芯片行业都忙活些什么，一边限制对手发展，另一边邀请台积电，三星赴美建厂。
美国已经确定给台积电提供166亿美元的资金支持，三星和英特尔多多少少也能获得百亿美元资金扶持。有这些资金，台积电在美国的投资额直接飙升至560亿美元。
台积电、三星、英特尔这全球三大芯片制造商齐聚一堂，美国芯片制造业的确会迎来不小的提振，但能否翻盘重新回到巅峰，恐怕还不能过早下定论。
因为芯片制造出来是拿来卖的，中国是全球最大的芯片消费市场，美国不准把高端芯片卖到中国，估计造出来的芯片也会砸在自己手里。造的芯片越多，亏损越大，等美国回过头来想做生意，就要看中国要不要芯片了。
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