最近，国产光刻胶迎来重大突破，在芯片行业产生了巨大的轰动。
4月2日，记者从华中科技大学获悉，该校与九峰山实验室组成的联合研究团队，突破了双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶技术。相关成果已经发表在《化学工程杂志》上。
在光刻胶技术上的这次突破，对我国具备重大的意义。
这套光刻胶体系，我国完全具备自主知识产权，为我国摆脱光刻胶的外部依赖，提供了坚实的基础。
由于日本和美国在芯片领域起步较早，长期以来，全球光刻胶市场，基本被日本和美国垄断。
日本JSR、日本东京应化、日本信越化学、日本富士电子材料这四家公司的市占率分别为：28.5%、22.4%、11.9%和9.7%，合计高达72.5%。
美国杜邦公司市占率11.2%，这5家公司，合计市占率83.7%。
这些公司，成立的时间长，技术积累深厚。
比如，日本东京应化成立于1930年，美国杜邦成立于1802年。
我国也有一些从事光刻胶的公司，比如容大感光、雅克科技和江化微等。
这些公司，由于起步较晚，目前处于追赶阶段。
现在的光刻胶技术，基本掌握在日本和美国人的手里。
日本是全球光刻胶专利申请量最高的国家，其专利申请量，占全球光刻胶专利总申请量的46%。
其次是美国的25%，两者专利申请量合计占比71%。
任何一个国家，要生产光刻胶，都很难绕过日本和美国的技术。
日本在全球市场中占据主导地位，时不时会拿光刻胶作为武器，对其他国家进行制裁。
2019年，日韩矛盾升级，日本政府随即宣布，光刻胶、氟化氢、氟聚酰亚胺三种化学物质对韩国出口采取管控措施。
这件事，让当年韩国半导体产业严重受挫，在韩国国内引起强烈反应，民众自发抵制一切日本产品。
接下来，韩国政府一方面向美国公司寻求替代品，另一面加大了在光刻胶领域的研发投入，加速国产替代。
2023年，日本宣布了一系列针对半导体产业的出口管制措施，我国就在其中。
这次华中科技大学在光刻胶技术上的突破，对国产光刻胶来说，是一个重要的里程碑。
这套具备自主知识产权的光刻胶系统，目前进展如何呢？
据悉，这套系统，已在生产线上完成了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测和优化，实现了从研发到成果转化的全链条打通。
在不久的将来，这套系统打磨成熟后，在光刻胶领域，我国将快速实现国产替代。
到那时，不是你日本和美国卖不卖的问题，而是我们不需要了。
在半导体的另外一个关键领域—-光刻机领域，据外媒报道，华为已经低调进军。
就像荷兰ASML首席执行官Peter Wennink所言：如果不让我们把光刻机卖给中国，3~5年后，中国就会自己掌握这个技术，一旦中国掌握了这个技术，生产成本会比国际上其他公司低很多。
无论是光刻胶，还是光刻机，总有一天我们会突破。
一但在这两个领域取得突破，在半导体领域，凭借成本优势和规模优势，我国将雄霸全球，就像如今的电动汽车和锂电池一样。
