这几年ASML成为半导体市场的香饽饽，究其原因是全球芯片代工厂商对光刻机的需求量太大了。
毕竟ASML是全球唯一一家可以生产EUV光刻机的厂商，并且浸润式DUV光刻机也占据了全球90%以上的市场份额。
而EUV光刻机是大规模量产7nm工艺以下芯片的最为重要的设备、没有之一，并且浸润式DUV设备经过多次曝光也可以量产7nm以下芯片，比如台积电就曾用ASML的浸润式DUV光刻机就生产过麒麟990芯片，这款芯片的工艺就是7nm。
由此可见，但凡芯片代工厂商想要大规模量产7nm及7nm以下工艺，那么ASML就是绕不开的坎，这也是ASML这几年混的风生水起的根本原因。
本来咱们的中芯国际在2018年的时候从ASML那里采购了一台EUV光刻机，但由于美方的阻扰，这台EUV光刻机最终无法出货，这大大延缓了我国内地厂商自主生产7nm芯片的进程。
也因为ASML在光刻机市场绝对领先地位，其生产的光刻机售价极高，最便宜的EUV光刻机售价都需要1.6亿欧元一台。
不过这个局面在最近得到的反转，佳能正式宣布，外媒也表示:光刻机市场“变天”了
近日，佳能研制的全球首款NIL系统FPA-1200NZ2C设备正式出货了，这台设备的卖家是美国德州半导体联盟的一家电子研究所。
据悉，这台NIL系统FPA-1200NZ2C纳米压机是佳能在去年发布的半导体设备，该系统可以生产最小线宽14nm芯片，工艺制程达到了5nm级别。按照这个参数，这款半导体设备也能生产5nm芯片，达到ASML的EUV光刻机的功能。
和ASML的EUV光刻机相比，这款纳米压机的售价极低，仅1500万欧元，不到前者售价的1/10。并且用这种纳米压机生产的芯片成本也比较实惠，大概比EUV光刻机节省40%左右。也许ASML也没有料到，佳能也能研制更为便宜的先进工艺设备。
不管是设备成本，还是芯片生产成本，佳能的这台纳米压机都具备很大的价格优势，这是ASML的EUV光刻机难以媲美的。正因为如此，有外媒才表示:光刻机市场的“变革”出现了。
当然了，这是媒体对这款纳米压机价格上的理解才得出的结论。实际情况来看，佳能的这款纳米压机并不能对ASML的EUV光刻机产生实质性威胁。为什么这样说呢？我们从两个个方面来看。
从产能来看，纳米压机类似于盖章，在章子上雕刻一个图出来，用这个章子印在晶圆上。而EUV光刻机则是用掩模来阻挡部分光线，从而形成光波图案，再投射到晶圆片上。
二者比较起来，纳米压机有点像古代的活字印刷，而EUV光刻机像现在的打印机，其工作效率天差之别。
正因为如此，EUV光刻机可以大规模量产7nm及7nm以下芯片，而这款纳米压机只能生产7nm及7nm以下芯片，根本做不到量产。
从产业链体系来看，目前各大芯片代工厂商都采购了大量的EUV光刻机，这些厂商用EUV光刻机生产先进工艺的芯片已经形成一条产业链。如果厂商要用佳能的这款纳米压机，那么它们就需要更换产业链上下游所有的设备，这对芯片代工厂商而言是难以承受的。
更何况纳米压机的产能非常小，目前还没有与之匹配的产业链上下游设备，这大大的限制的纳米压机的应用空间。
写在最后
不管是从产能来看，还是供应链体系来看，佳能的这款纳米压机对ASML的EUV光刻机没有实质性威胁。
对于半导体市场而言，佳能的这款纳米压机给广大芯片代工厂商提供了一个思路，那就是生产先进工艺的芯片并不是只有EUV光刻机可以完成，纳米压机的“盖章”工艺也能完成先进工艺。如果按照逻辑，那么外媒的“光刻机市场变革出现了”也是很有道理的。
