上证报中国证券网讯据悉，拓荆科技是国内量产型PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD等薄膜沉积设备和混合键合设备的领军企业。近年来，拓荆科技持续突破核心技术，推进各系列产品的迭代升级与产业化应用，产品市场竞争力持续增强，经营业绩保持较高速增长。2023年度，拓荆科技营业收入27.06亿元，同比增长59%，2018年至2023年复合增长率达到107%。
拓荆科技目前已经形成半导体薄膜沉积设备和混合键合设备两个产品系列，截至2024年6月末，拓荆科技累计出货超过1940个反应腔，预计2024年全年出货超过1000个，将创历史新高。截至2024年6月30日，拓荆科技发出商品余额31.62亿元，较2023年末发出商品余额19.34亿元增长63.50%，为后续收入增长奠定良好基础。目前，拓荆科技在手订单充足，未来业绩增长具备坚实基础。
研发方面，2024年上半年，拓荆科技研发投入达到3.14亿元，同比增加50%，研发投入占营业收入比例高达24.81%，多年来的研发投入占营业收入的比例均在20%以上。截至2024年半年度末，拓荆科技研发人员数量达到506人，同比增加102人，研发人员数量占拓荆科技总人数比例为40.38%。
2024年上半年，拓荆科技不断拓展新产品及新工艺：首台PECVDBianca工艺设备通过客户验证，实现了产业化应用，超过25个PECVDBianca工艺设备反应腔获得订单；首台高深宽比沟槽填充CVD产品通过客户验证，与超高深宽比沟槽填充CVD设备相关的反应腔累计出货超过15个；键合套准精度量测产品Crux300已获得客户订单；两款新型设备平台（PF-300TPlus和PF-300M）和两款新型反应腔（pX和Supra-D）持续获得客户订单并出货至多个客户端，累计超过180个新型反应腔（pX和Supra-D）获得客户订单，超过130个反应腔出货至客户端验证。
未来，拓荆科技将继续不断加大研发力度，拓展新产品、新工艺，完善产业布局，推进拓荆科技的高质量发展，为股东创造长期可持续的价值。（陈志强）
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