对半导体行业有一定了解的用户都知道光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”，因此光刻机对半导体产业的发展至关重要。
而ASML是全球唯一一家可以生产EUV光刻机的半导体厂商，并且它在浸润式DUV光刻机市场也有90%以上的市场份额，因此ASML卡住了全球晶圆厂商的“脖子”，这里面就包括中芯国际、长江存储等国产厂商。
不过光刻机的研制不是一朝一夕可以完成的，我国经过20多年的发展，目前已知的最先进光刻机就是氟化氩光刻机，这款光刻机分辨率为65nm，套刻工艺为8nm。
按照套刻比1:3计算，这款氟化氩光刻机可以生产28nm芯片，因此这款光刻机算是28nm光刻机。和ASML的2nm光刻机、3nm光刻机相比，我国最先进的光刻机还是有不小的差距。
虽然我国在光刻机领域和ASML差距较大，但在其他领域，我国却取得了非常大的进步。据悉，近日，国产半导体巨头正式宣布交付7nm工艺产品，对此，外媒表示:反转再次出现。
半导体行业是一个科技含量非常高的行业，这里面设计的设备非常多，其中就包括光刻机、等离子蚀刻机、离子注入机、单晶炉等。而有一款设备也非常重要，那就是半导体检测设备。
据悉，半导体检测设备是芯片制造过程中检测芯片性能、与缺陷的设备。这个检测伴随着芯片生产过程中的每一个环节，对芯片的质量、良品率起到关键的作用。正因为半导体检测设备的重要性，很多半导体专业人士认为半导体检测设备的科技含量仅次于光刻机。
此前，半导体检测设备一直被国外的KLA等少数巨头所垄断，我国的半导体检测设备厂商面对它们几乎毫无招架之力。
随着芯片重要性的凸显，我国半导体厂商开始注重半导体产业的研发投入，这几年就包括28nm光刻机、麒麟9010、4nm蚀刻机等产品的突破。而在半导体检测设备领域，我国的精微电子正式宣布了。
近日，精微电子在投资者互动平台表示:精微电子是国内半导体检测设备领域领军企业之一，其麾下的部分主力产品已经完成7nm先进制程的交付和验收，目前更先进制程的产品正在验证中。
据悉，精微电子是我国半导体巨头之一，在半导体检测设备领域具有很大的话语权。目前，精微电子已经向客户交付了14nm工艺产品，这表明精微电子已经掌握了成熟的14nm工艺检测设备。
精微电子的这次表态算是打破了KLA等厂商的垄断，也加快了我国半导体检测设备的自主化，这对于我国半导体产业的整体发展无疑是打上了一剂强心剂。
写在最后
从华为自研自产了麒麟9000S芯片，到中芯国际掌握7nm芯片技术，再到国产28nm光刻机问世，我国半导体技术是一次次实现反转，这让以美方为首的“封锁联盟”非常无奈。现如今国产半导体检测设备突破了7nm水准，实现了交付、验收，这再次打了封锁联盟的脸。正因为如此，有外媒才表示:反转再次出现了。
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