工信部推广国产氟化氩光刻机: 分辨率≤65nm

观察者网2024-09-14 21:56:04 306

据微信公众号“工信微报”消息，近日，工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。

“工信微报”介绍道，重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全。中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。

而观察者网注意到，在《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》电子专用装备目录下，集成电路设备方面：氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

工信部网站

《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》

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最新回复(56)

传媒焦点圈2024-09-15 12:31
引用36楼
KrF氟化氪，ArF氟化氩，这次光源是196纳米，所以干式，一般制程和套刻精度的关系是 1:3。所以 8*3=24，大概就是 28nm 的水平都可以搞定了
苏佳怡娱乐2024-09-15 12:07
引用35楼
良品率除了机器原因，还要有工作人员的专业操作能力才行。不管是机器，还是人，我们工业积累还不够雄厚
詹俊评述2024-09-15 12:04
引用34楼
是应急还是有足够的理论体系支持这种光刻机发展潜力不低于asml，如果是后者就好了，时间我们等得起
冲之星2024-09-15 10:44
引用33楼
查了一下阿斯麦卖给中国最先进、马上又要管制的技术参数: 阿斯麦DUV光刻机2000i型号的分辨率和阿斯麦DUV光刻机1980Di型号是相同的，都是支持到38nm的最大分辨率。它们都采用了相同的193nm的深紫光源，具有相同的光学及量产指标。DUV光刻机的分辨率是指在曝光过程中，能够清晰显示出的最小细节大小。因此，阿斯麦DUV光刻机2000i型号的分辨率为38nm，意味着它能够表现出比这个尺寸更小的细节。这对于半导体制造等领域来说非常关键，因为更小的分辨率能够实现更高的集成度和更高的性能。
盼晴评文学2024-09-15 10:35
引用32楼
应该说，能满足除华为以外的其他所有中国企业！[得瑟]
自由状稿2024-09-15 10:34
引用31楼
基本上、以前阿斯麦能卖的，我们都不需要了！
脑袋困掉?2024-09-15 10:34
引用30楼
能生产和可商业推广的区别还是很大的！
全球资讯枣知道2024-09-15 10:32
引用29楼
既然公开推荐，说明技术成熟稳定、可批量生产、商业成本可控！
飞人看电影2024-09-15 10:22
引用28楼
1、说明这是全套国产技术的高端产品，已经从0到1！战斗机发动机当时突破1后、就是井喷式发展！2、套刻8nm是不是指多次曝光可以达到8nm？而且是≤8nm！3、如果第2条我理解对的话，是不是可以把阿斯麦的D2000咔嚓掉了！当然国产光刻机从产能、供货、安装调试是有一个周期的！4、这个产品性能应该仅次于阿斯麦、高于佳能、尼康！属于妥妥的中高端光刻机！除了手机和人工智能芯片外，是不是可以全覆盖了？4、推荐表除了光刻机，还有其他各种配套技术！技术解决了，是不是可以干湾湾了？随便把苹果、特斯拉赶回白皮家去！
元柳看文玩2024-09-15 10:17
引用27楼
先解决有无问题，再解决大规模普通耗材问题，最后冲刺顶峰
?娜姐家生活用品2024-09-15 09:42
引用26楼
用于消费级肯定不行，但是美国对中国禁运的服务器级芯片，不考虑成本和专利时可以开工了
寒韵聊科技2024-09-15 09:30
引用25楼
这是缓过来了么？虽然还有差距，但基本也够用了
欧系料具2024-09-15 09:28
引用24楼
美国那么多先进产品都是中国过去的留学生创造出来的，算中国帮忙的吗？
南国今报2024-09-15 09:25
引用23楼
10年后，asml将不存在了吗
台球张忻乐2024-09-15 09:05
引用22楼
难道这是在说，今后买ASML或其他的什么光刻机是在赏他一口饭吃？[笑着哭]
小鱼带你看今朝2024-09-15 08:55
引用21楼
重大利好，加油
婷婷谈科技2024-09-15 08:48
引用20楼
怪不得，再也没听说过，华为被芯片卡脖子了！
音豪2024-09-15 08:36
引用19楼
你又知道，给大家说一下专家。
_LX2024-09-15 08:26
引用18楼
良品率能提高，制造成本能降下来，就把把霉西方搞成白菜价最好[笑着哭]
梦秋评时事2024-09-15 08:24
引用17楼
说明光刻机技术在稳步推进，甚至是大步推进。祝贺！