运营商财经网康钊: 恭喜国产光刻机取得重大突破!

康钊2024-09-18 03:46:36  61

运营商财经 康钊/文

近日,工信部发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,其中显示,集成电路设备方面,中国已研发成功氟化氩光刻机,光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。那么,这是什么含义呢?其实还有喜有忧。

工信部其实是告知一个重要信息,即国产光刻机技术取得了实质性进步。光刻精度主要看的是光刻机的分辨率,65nm的分辨率,那么单次曝光能够达到的工艺制程节点大概就在65nm左右,所以,工信部的消息其实意味着国产光刻机已经实现了65纳米工艺的重大突破。可千万别小瞧这个进步,最近,荷兰遵照美国的意图,限制光科技巨头阿斯麦公司向中国出售NXT:1970 和 NXT:1980这两款光刻机,就是故意卡在65纳米工艺上了,中国宣告光刻机突破65纳米,美国的这个卡脖子政策也就没意义了,这就是喜的地方。

忧的地方是,还没有业内企业说见到了这个光刻机。中国首台(套)重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系统和关键零部件等。也就是说,这个65纳米工艺的国产光刻机还没到“取得明显市场业绩”的阶段,不知中芯国际之后是否会购买并大规模使用。

中国虽然攻克了65纳米工艺的光刻机,但距离国际先进水平还相差多远呢?实际上,荷兰阿斯麦公司2006年推出的干式DUV光刻机XT:1450的分辨率就已经达到了57nm,套刻精度为7nm。所以,65纳米的国产DUV光刻机性能与阿斯麦公司的技术实际差距超过18年,美国限制向中国出售的NXT:1970光刻机也是2007年就已推出的,17年前的老款光刻机都对中国不开放,可见美国对中国真是欺负到家了,但这回泡汤了。

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