在金秋九月的某一天，中国科技界传来了一则振奋人心的消息，如同一颗石子投入平静的湖面，激起了欧美科技圈的层层涟漪。这则消息宣布，中国在国产光刻机领域取得了重大突破，一台具备高精度参数的光刻机横空出世，其晶圆直径达到300mm，照明波长为193

在全球化日益紧密的今天，科技领域的竞争却愈发激烈。美国，作为全球科技霸主，为了维护其领先地位，不惜采取一系列手段，试图遏制中国芯片产业的崛起。联合日本、荷兰，构建技术防线，限制关键设备出口，企图将中国芯片的技术进步锁死在某个节点。然而，正如

在科技日新月异的今天，每一个微小的进步都可能引发行业的巨大变革。近日，工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，氟化氩光刻机的亮相无疑成为了众人瞩目的焦点。这不仅是因为它是国产光刻机历史上的首台DUV（深紫外