近日，我国在半导体专用光刻胶领域实现重大突破，成功打破国外技术垄断局面。一直以来，我国光刻胶的国产化率仍然较低，特别是在高端的半导体光刻胶如KrF和ArF光刻胶和面板光刻胶领域，国产化率不足50%，而EUV光刻胶几乎全部依赖进口。近年来，随

近日，2024中关村论坛年会发布了10项重大科技成果名单，分别是《中关村世界领先科技园区建设方案（2024-2027年）》、全模拟光电智能计算芯片、人工智能取得系列成果、转角氮化硼光学晶体原创理论与材料、量子云算力集群、300兆瓦级F级重型