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EBSD制样技术比较
对于EBSD样品,最基本的要求包括:样品表面要清洁、平整、无应力(包括弹性和塑性应力),并且需要具有良好的导电性。此外,样品的尺寸通常约为1立方厘米或稍小,或者为与加工方向轴平行的圆柱形。EBSD制样方法一般包括以下几个步骤:切割、镶嵌、研
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4月前
89
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LED静电失效原理和检测方法
随着LED业内竞争的不断加剧,LED品质受到了前所未有的关注。在LED的整个生命周期中,从制造到运输,再到装配和使用,生产过程中的设备、材料以及操作人员的每一个细节都可能引发静电(ESD)损伤,进而使LED过早出现漏电流增大、光衰加剧,甚至
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5月前
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答疑篇: EBSD常见问题解答
EBSD(ElectronBackscatterDiffraction,电子背散射衍射)是一种利用扫描电子显微镜(SEM)来获取晶体结构和取向信息的技术。在SEM中,EBSD已成为一项重要的附件,在金属、半导体、矿物和陶瓷等材料的研究中得到
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5月前
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EBSD的低剂量分析
EBSD(ElectronBackscatterDiffraction)被广泛应用于金属、陶瓷和矿物晶体材料的取向和微观结构表征。随着新的EBSD探测器的发展,越来越多的人对电子束敏感材料进行EBSD分析。然而,某些材料,如有机光伏材料和生
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5月前
128
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AEC-Q-CDM测试
CDM(ElectrostaticDischargeChargedDeviceModel)充电器件模型与HBM(人体放电模型)和MM(机器放电模型)有所不同。在CDM模型中,电路本身在组装或运输过程中被充电,当接触到地或其他导体时,会发生电
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5月前
128
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AECQ中的芯片剪切强度测试, 推荐推拉力测试机, 内含标准和方法!
AECQ芯片剪切强度测试近期,金鉴实验室收到许多电子行业客户关于在AEC-Q(AutomotiveElectronicsCouncil-Quality)标准中进行芯片剪切强度测试的咨询。他们想了解如何进行这项测试以及需要使用什么样的设备。为
鳄梨实验室
5月前
129
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氩离子抛光/CP截面抛光切割制作SEM样品
氩离子抛光技术又称CP截面抛光技术,是利用氩离子束对样品进行抛光,可以获得表面平滑的样品,而不会对样品造成机械损害。去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在SEM,光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。
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5月前
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气体腐蚀试验之 AEC-Q102
大气环境涵盖了温度、湿度、氧气、气体污染物以及其他腐蚀因素和成分。这些气体在特定条件下会与金属表面吸附的水分子发生反应,形成化合物。对于电子产品的元器件、整机或材料,尤其是接触件和连接件等部分,这种腐蚀作用显著,严重影响产品的电性能和使用可
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5月前
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技术干货---气密性封装检查之粗检漏
密封封装在保护电子元器件免受外部环境腐蚀方面发挥着重要作用,从而提高其可靠性和稳定性。在航空、航天、仪器仪表、测量及特殊装备等领域,由于工作环境的特殊性,电子元器件需要具备更高的耐久性和抗腐蚀能力。因此,采用密封封装技术是至关重要的。密封封
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5月前
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样品制备与EBSD的具体功能: 探索材料微结构的利器
EBSD是扫描电子显微镜的附件之一,可以提供完整的分析数据,如晶间取向、晶界类型、再结晶晶粒、微织构、相辨别和晶粒尺寸测量等。EBSD数据来自样品表面下10-50nm厚的区域,因此在EBSD样品检测时需要倾转70°,以避免表面高处区域遮挡低
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5月前
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