俄罗斯已研制出首个光刻装置，目前正处于试验阶段，塔斯社称。俄罗斯贸易和工业副大臣瓦西莉·斯派克表示，这种装置可以用来制造350纳米芯片。
Shpak向记者透露了该计划的最新进展：“我们已成功组装并制造出了首台自制的光刻机，并已进入泽廖诺格勒的生产线。”俄罗斯打算在未来数年内，研制出一种能支持130纳米工艺的微影装置，并于2026年生产。
350纳米工艺芯片在汽车、能源、通信等方面仍然有着巨大的发展潜力。
此外，据 IT之家此前报道，俄罗斯下诺夫哥罗德应用物理学研究院（IPRRAS）表示，他们将开发俄罗斯首款光刻装置，并自信地宣称，这款装置将使用7奈米工艺，在2028年完全投入生产。
该研究所还制定了一个6年的研究开发日程，并将在2024年发布一个被称为阿尔法机的样机。在这一阶段，我们关注的不是设备的速度和性能，而是设备的完善和可靠性。
随着俄罗斯在光刻方面的发展，施帕克强调了自己国家对半导体产业的重视。他表示，尽管受到国际上的制裁以及科技封锁，俄罗斯在获取高端科技方面遇到了困难，但其仍在逐步缩短与发达国家的距离，而这一差距在很大程度上依赖于本土开发与本土制造。
2024年，俄罗斯的阿尔法光刻技术，将会成为俄罗斯半导体工业发展的一个里程碑。该课题的顺利开展，将为我国今后高精度光刻装备的研发提供重要的理论依据和技术支撑。俄罗斯的科研人员和工程人员，正加班加点，争取在2026年实现130纳米光刻机的批量生产。
与此同时，其他行业也在为这个突破做着准备。汽车生产商、通信企业、能源企业正翘首以盼。他们认为，350纳米芯片的国产化，将极大地减少供应链中的风险，提高芯片的可靠性和独立性。
同时，我们的研发团队，也会在7纳米光刻技术上，持续不断地进步。这一项目预计在2028年完全投入使用，到那时，俄罗斯不但能在世界范围内占有一席之地，而且还能为我国的高端电子制造提供强有力的支持。
同时，俄罗斯也在大力支持半导体工业，这是一个非常好的政策。政府在经济和政策上给予一定的支持，使得本土高科技企业有更多的精力去研究和制造。与此同时，俄罗斯还在积极寻求与世界各国进行合作，以促进其科技进步和工业发展。
总的来说，俄罗斯在光刻和半导体方面的自主研究，既代表着他们在高科技领域的独立性和竞争力的提升，也给我国相关行业的发展提供了新的机会和挑战。随着俄罗斯的技术进步和产能的提升，在不久的将来，有望在半导体领域实现突破性进展，引领全球科技产业的腾飞。
