2024年6月12日，联合早报传来一则消息，“美国官员计划限制中国使用一种名为环绕栅极晶体管尖端芯片架构的技术”。
环绕栅极技术也许比较陌生，但是换成GAA技术相信很多人都不会陌生，因为在过去的几年里，无论是英特尔还是三星电子亦或是台积电都在提及GAA技术，其实这就是一种晶体管技术，只不过是应用于5nm以下工艺的晶体管技术，其被认为是，FinFET技术的下一代技术，就像当年MOSFET技术在28nm节点以下的芯片发展上被FinFET技术淘汰一样，外界普遍认为，未来GAA也会淘汰FinFET技术。
目前我国的中芯国际主要发展的也就是FinFET技术，而美国这次的操作，无疑是想要在先进半导体晶体管技术上卡我们的发展，这是时隔4年后，美国再一次拿芯片说事儿。
从2019年开始，过去四年里，美国主要对芯片指令集架构、芯片设计软件EDA、芯片制造工具光刻机等下达限制禁令，想要通过这种方式来阻止我们在芯片领域的发展。
但是，现在对GAA下手似乎意味着光刻机的“牌”他们打完了，毕竟，在美国不断要求ASML公司加大对光刻机的限制出口力度后，ASML新任CEO已经下场喊话，告诉外界，如果继续限制，中国很可能快速打造出自己的光刻机。
其实这并不是ASML在吓唬拜登等白宫高层，光刻机最核心的部件无非就是曝光系统、光学系统、电控系统、镜头和光源，目前光源我们的解决方案已经有不少了，华科和清华都有了解决方案，虽然还处于实验室阶段，可是，在我们对半导体领域加码后，从实验室到工业落地也不会很远，至于曝光系统、光学系统以及电控系统，这对于我们来说也不是难度，目前估计的难度估计在镜头上，毕竟当下全球最顶尖的光刻机镜头是蔡司专供的，我们还需要时间去寻找替代方案。
当然，突破只是一方面，估计真正让拜登等白宫高层改变思路想要限制GAA，是因为，华为已经通过别的技术方案，在不使用ASML的高阶光刻机的情况下也已经可以制造出7nm芯片了，所以，本质上光刻机不光刻机，对我们的影响已经越来越小了。
当然，这还不是他们最害怕的，最害怕的是华为在Al芯片领域的实力，根据华为Ascend与鲲鹏部门首席运营官汪涛表示，华为Ascend 910B AI芯片在训练性能上已成功超越英伟达A100 AI GPU达20%。
而Al芯片的市场需求在不断扩大，并逐渐影响到各个领域，根据Gartner公布的数据显示，2024年Al芯片的市场规模将达到710亿美元，到了2025年规模会扩大到920亿美元，并且还将持续扩大。
因为Al带来的变革将是革命性的，为了阻止我们在Al领域的发展，拜登已经禁止英伟达的高性能Al芯片进入我国市场，但是，这依旧无法阻止我们在Al芯片领域的布局，所以，现在拜登之流把目标调整到制造工艺方面，所以这次还是冲着华为来的。
毫不夸张的说，华为几乎是凭借一己之力打响了中国芯片的名号，从Soc到Al芯片，华为都抗住了来自于海外市场的压力，对此外媒方面也是给出评论表示，“现如今美国俨然已经无法阻止中国在半导体领域的发展了，未来的芯片市场格局一定会有一条中国模式”。
