众所周知，荷兰ASML是目前全球范围内技术最先进的光刻机设备供货商，受制于美方修改规则以及《瓦森纳协定》的影响。这家欧洲公司在半导体设备的出口问题上不能够实现独立自主。在美修改芯片规则，并限制台积电、三星等晶圆厂为华为供货之后，国内开始大力发展本土芯片制造产业。
而光刻机等半导体制造设备的供货，则对于国内芯片代工企业的扩产就显得尤为关键。在这样的背景之下，谁能够提供绕开ASML EUV光刻机的技术方案，就能够在国内取代ASML的市场地位。目前，可以绕开ASML光刻机的技术被公开，日本企业佳能传出新消息，人民日报果然没有说错！
据了解，日本企业佳能早些年就一直在着手开发替代ASML EUV光刻机的设备，原因无他，就是想要抢占高端半导体设备市场的份额，进而逐渐摆脱对于西方的技术依赖。加上日本对于基础物理学的研究较为精通，一来一去之下还真让佳能找到了可行的替代方案，那就是纳米压印技术。
去年十月份，佳能推出新型FPA-1200NZ2C纳米压印光刻机，该设备可以通过纳米压印光刻（NIL）技术，直接将电路图案直接印在晶圆上，实现了目前最先进的半导体工艺。当外界都认为佳能会将该设备出货给急需高端半导体设备的中企时，日企佳能方面传出了新消息，人民日报果然没有说错。
据佳能官方宣布的消息显示，目前该公司已经与印度企业达成合作，并着手洽谈与纳米压印光刻设备有关的安装事宜。同时，该公司还向外界宣称，愿意为其他前往印度建厂的海外半导体公司提供设备，如台企PSMC等等。由此不难看出，佳能已经启动了纳米压印光刻机设备的商用化，只不过第一站没有放在中国市场。
其实，佳能此番布局一点也并不让人感到意外。早在去年，有关方面就已经传出了美日荷“三方协议”的消息，加上日本一直在配合老美采取的芯片策略。限制相关半导体设备的对华出货，几乎是必然会发生的局面。这也导致了佳能即便实现了设备的突破，也无法把该设备出货给中企。
而佳能加快布局印度市场，对于中国本土的半导体产业发展，也会带来一定的负面影响。目前，国际市场中高端的芯片产品，主要被欧美日韩等国家所掌握，国内虽然能够制造部分高端芯片，但是，受制于设备、工艺等因素，无法形成规模化的效应。
如今，佳能配合印度加快在半导体领域的布局，势必会影响我们国产的中端芯片市场。再配合欧美在高端芯片市场的垄断，国内半导体产业在海外市场的竞争压力就会变得越来越大。不过这一切都要建立在印度工厂理想运行的前提之下，结合之前赴印建厂外企所面临的局面。佳能这次的布局，可能也是有去无回的存在。
要知道，印度市场无论是营商环境还是供应链的完整性，现阶段都不如国内来的稳定。而从这次事件来看，老美的确是开始对自身的芯片策略显得不够自信了，所以，只能够联合盟友在芯片问题上做文章，妄想把中企给挤出圈子之外。
对此，人民日报说的就很对，美西方的芯片管制和技术打压，无一例外就是为了减缓我们的发展速度。我们必须明白妥协换不到和平发展的道理，唯有通过自主研发、技术创新才能实现全面突围。一旦国内实现技术突围，美西方的管制也就彻底失效了。对此，你又是怎么看的呢？欢迎大家留言、讨论！
