美国将不少中企列入实体清单，并且还开始限制先进芯片、半导体设备出货，将中国芯排除在世界半导体供应链之外，一定程度上影响了中国芯的发展。可是让美国没有想到的是，中国企业纷纷意识到核心技术的重要性，开始加速国产芯片供应链的突破，这也让很多国家看到了发展芯片产业链的重要性，纷纷开始加速芯片本土化替代。
眼看着美国在芯片产业链方面的技术优势逐渐消失，美国也开始着急了，拿出520亿美元补贴芯片厂商赴美建厂，同时还进一步扩大光刻机出口管制禁令的范围。面对美国的要求，ASML不仅十分的不满，同时还加速自主技术的研发，想要摆脱对美技术的依赖，拿出了最先进的NA EUV光刻机。
NA EUV光刻机可以用于2nm制程甚至是1nm制程的芯片生产，可以说是如今全球范围之内最先进的光刻机设备，并且也引起了国内外不少芯片制造厂商的抢购。从ASML此前公开的消息来看，2024年与2025年的NA EUV光刻机产能已经全部被预定。
就在最近，传出了ASML的第二台NA EUV光刻机已经完成出货的消息，不过让人没有想到的是，相比较于出货第一台NA EUV光刻机给英特尔时候的那种高调宣布而言，这次ASML出货NA EUV光刻机却显得十分的低调，甚至没有公开购买的厂商，这也引起了不少外媒和业内人士的猜测。
从ASML此前公开的订购数据来看，主要的客户就是台积电、三星以及英特尔、SK海力士等全球知名的芯片制造企业，其中英特尔的订单数量非常之多，在2024年的十台NA EUV光刻机产能当中就预订了六台。
也正是因为这个缘故，不少业内人士其实都倾向于第二台NA EUV光刻机是在这几家厂商当中选择的。不过这种观点也有不少人反对，毕竟这几家芯片制造厂商订购NA EUV光刻机的事情基本上可以说是已经传播开来，并没有什么好隐瞒的。
更何况，NA EUV光刻机主要还是用于2nm制程芯片的生产，3nm及以上制程的芯片制造使用EUV光刻机即可，目前各大芯片制造企业还没有完成2nm制程芯片的技术研发，距离量产也还有一段时间，也并没有什么好隐瞒的。
也正是因为这个缘故，一些业内人士猜测第二台NA EUV光刻机有可能是出货给了中国厂商。这个猜测其实可能性并不高，毕竟在瓦森纳协议以及光刻机出口管制禁令的限制之下，ASML如今连浸没式DUV光刻机以及EUV光刻机都无法出货，想要出货NA EUV光刻机基本上是不可能的事情。
值得关注的是，从如今全球芯片市场情况来看，其实也有可能是其他的美国半导体厂商购买了，例如美企IBM等，如今美国一直想要在先进芯片制程上追赶上上来，进一步保持其在芯片半导体领域的市场影响力，多家美国芯片企业其实都在加速芯片制造技术的突破，英特尔更是在全球范围之内开始扩大建厂规模。
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