最近，国内科技圈和金融市场那叫一个热闹，大家伙儿都在热议一个词——“光刻机”。说起来，光刻机上次这么火还是2020年初那会儿，因为当时欧美国家突然对我国企业动手，来了个芯片封锁大招。这一招，直接让我们清醒了不少，意识到咱们在半导体这块儿还有不少短板得补，特别是光刻机，那可是造芯片的关键设备。白春礼院士那会儿就说了，要集中火力，搞定光刻机！
打那以后，咱们国内的光刻机事业就跟坐火箭似的，嗖嗖地往前冲。但话说回来，光刻机复杂得很，比盾构机那些个大家伙还难缠。据悉，一台光刻机里面的零部件超过十万个，供应链也是盘根错节，复杂得很。要在欧美封锁下造出纯国产的高阶光刻机，那难度，简直比登天还难！
不过，功夫不负有心人，这几年咱们没少听到光刻机技术突破的好消息，虽然真正的产品落地还差点意思。直到前几天，工信部发布了个《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，里面竟然有两台光刻机上榜了！
特别是那台氟化氩元光刻机，数据一出来，网上都炸了锅。说它能达到65nm的精度，套刻误差小于8nm。但这可不是说咱们的光刻机能直接造出8nm的芯片哈，要理解清楚，这65nm是精度，8nm是套刻误差，意思是在堆叠芯片层时，每层之间的误差能控制在8nm以内，已经非常了不起了！
这消息对咱们来说，绝对是喜大普奔！以前咱们的光刻机精度还停留在90nm呢，现在一跃到了65nm，这可是历史性的跨越！上海微电子这回算是给咱们争了口气，接下来的目标，那就是向28nm进发，一步步往上冲！
别看咱们现在好像速度不快，但实际上已经很快了。要知道，咱们是在没有任何外援，还被欧美封锁的情况下，硬生生闯出这条路的。想想咱们的高端盾构机，那也是花了数十年才搞定的，光刻机的难度可想而知。但咱不怕，有了这个好的开头，接下来只会越来越快！
这下子，欧美那边怕是要急眼了。以前他们总觉得咱们就算拿到图纸也造不出光刻机，现在咱们不仅造出来了，还越造越好。特别是华为麒麟芯片的回归，还有咱们在芯片设计、EDA软件、指令集架构上的全面突破，整个芯片产业链都在慢慢成型。虽然现在主要还在低端市场转悠，但这只是开始，咱们的目标是星辰大海，早晚要从低端杀到高端，到时候谁也别想拦着咱们！
拜登、耶伦他们看到这局面，估计得头疼不已。他们的封锁计划，现在看来就像是搬起石头砸了自己的脚，不但没拦住咱们，反而激起了咱们的斗志。这下好了，咱们自己的路越走越宽，越走越稳，未来的路，咱们自己说了算！
