工信部公布了国产duv光刻机的消息，有一些人看数字说是8纳米芯片可以做的光刻机出来了，不是，这是28纳米的光刻机，不过这个机器看起来是大批量出货了，这个是重点，而且这个光刻机的意义不是制程，也是突破光刻机的光技术，有这个，接下来的研发会更迅速的。
套刻精度是按照1比3左右的比例看的，所以这个产品套刻是8纳米，乘以三，就是24纳米左右，其实就是28纳米的芯片制程，大概是20年前的对手水平，而不是写了8纳米就是，因为写的特别明白，这是套刻8纳米。你要想是真正的8纳米光刻机，套刻应该是2或者3才对。这个大概和asml的1460k光刻机差不多，20年前的设备。
但这不带没有意义，这个是中高端和中低端的分界线，也就是28纳米制程是让你从中低端光刻机，到中高端入门光刻机的阶段。然后这个可以突破之前对光刻机的理解，也就是光源的突破，后面可能会加速，这是量产的机器，不是你们看到的之前所谓展示的机器。至于euv没有消息，有可能两个是一起研发中，所以看后续的消息吧。
所以现在有人的解读是不错的，因为很多人其实看到后面写的8纳米，就认为是8纳米的机器，其实不是。不过这个出来的意义很大，原因是asml之前说了，要停止对先进制程的光刻机技术支持，所以现在这个阶段，出现这个消息，很有意义。当然这样的设备更新周期很长，毕竟这个不是需要很多配件支持才能做出来的，看看后续能否快速的提升吧。这算最近第一次真正的公布国产光刻机的进度，很多人其实之前各种消息都有，但现在看，都不对。duv的光刻机，不知道能不能很快看到消息。
